Новые материалы помогут EUV-литографии создавать чипы с элементами размером в несколько атомов
Компьютерра ·
Источник: Компьютерра - Журнал о науке и технологиях Американские исследователи вместе с промышленными партнерами разрабатывают новые материалы для экстремальной ультрафиолетовой литографии (EUV), которые должны помочь создавать более плотные и производительные микросхемы. Технология позволяет формировать на кремниевых пластинах элементы, размеры которых в десятки тысяч раз меньше толщины человеческого волоса. EUV-литография используется для нанесения сверхмалых схем на кремниевые пластины. Технология работает с экстремальным ультрафиолетовым излучением […] Полная версия статьи: Новые материалы помогут EUV-литографии создавать чипы с элементами размером в несколько атомов
Источник: Компьютерра - Журнал о науке и технологиях Американские исследователи вместе с промышленными партнерами разрабатывают новые материалы для экстремальной ультрафиолетовой литографии (EUV), которые должны помочь создавать более плотные и производительные микросхемы. Технология позволяет формировать на кремниевых пластинах элементы, размеры которых в десятки тысяч раз меньше толщины человеческого волоса. EUV-литография используется для нанесения сверхмалых схем на кремниевые пластины. Технология работает с экстремальным ультрафиолетовым излучением […] Полная версия статьи: Новые материалы помогут EUV-литографии создавать чипы с элементами размером в несколько атомов