Китай впервые показал прототип собственного источника EUV-излучения для передовой литографии
iXBT.com · · g1796236
Китайская компания Landau Flint впервые публично показала прототип источника экстремального ультрафиолетового излучения (EUV), предназначенного для высокоточной фотолитографии при производстве микросхем. Разработку представили на 26-й Китайской международной промышленной выставке в Шанхае. По данным издания Liberation Daily, уровень локализации системы достигает 90%, большинство ключевых компонентов разработаны самостоятельно.
Китайская компания Landau Flint впервые публично показала прототип источника экстремального ультрафиолетового излучения (EUV), предназначенного для высокоточной фотолитографии при производстве микросхем. Разработку представили на 26-й Китайской международной промышленной выставке в Шанхае. По данным издания Liberation Daily, уровень локализации системы достигает 90%, большинство ключевых компонентов разработаны самостоятельно.
Источники EUV-излучения считаются одним из трёх основных компонентов литографических установок для выпуска передовых чипов с техпроцессом 7 нм и меньше. Такие технологии долгое время оставались под контролем зарубежных производителей и были недоступны китайским компаниям из-за технологических ограничений и экспортных запретов. Создание собственного источника излучения — важный этап для развития национального производства оборудования для выпуска передовых микросхем.
По словам представителей компании, показанный прототип использует технологический подход, сопоставимый с решениями ведущих мировых производителей, и уже может применяться для испытаний по экспонированию чипов. При этом до промышленного производства ещё далеко: по оценке сотрудников на выставке, на подготовку к серийному выпуску потребуется от трёх до пяти лет. Основные задачи — увеличить мощность излучения и обеспечить стабильную работу системы в течение длительного времени.
На официальном сайте Landau Flint представлены несколько разработок в этой области: высокомощный источник FlintMicro-LPP Alpha01, система EUV-излучения на основе лазерно-индуцированной плазмы и маломощная установка FlintNano LPP-OXXO. В компании сообщают, что серия Flint Micro-LPP прошла демонстрацию принципа работы, а Flint Nano-LPP находится на этапе подготовки к коммерческому применению.
Согласно опубликованным характеристикам, FlintNano LPP-OXXO использует лазер мощностью 1000 Вт с частотой от 1 до 20 кГц. Заявленная мощность EUV-излучения превышает 15 Вт, непрерывное время работы — свыше 100 часов. Также компания указывает стабильность плазмы на уровне 3% RMS и энергетическую стабильность 5%. Однако этих показателей пока недостаточно, чтобы говорить о готовности установки к промышленной эксплуатации: коммерческим EUV-системам требуются источники мощностью в сотни ватт, рассчитанные на длительную и надёжную работу.
Landau Flint основана в 2024 году командой, работающей над технологией LPP-EUV на базе исследований лаборатории газоразрядной плазмы Университета Цинхуа. Компания занимается разработкой оборудования для производства полупроводников и программных средств моделирования плазмы. В 2025–2026 годах она привлекла несколько раундов финансирования, в том числе инвестиции Woyan Capital и SMIC Capital.