В России разработали материал для полировки пластин при производстве чипов
iXBT.com ·
Учёные Нижегородского государственного университета имени Лобачевского запатентовали технологию глубокой очистки нанопорошка диоксида кремния, который используется при создании полировальных суспензий для производства микросхем. Разработка позволяет контролировать размер, форму и однородность частиц, а также снижать содержание примесей. Технологическая линия и регламент получения материала уже подготовлены, созданная суспензия направлена индустриальному партнёру для испытаний.
Патент на способ очистки аморфного диоксида кремния исследователи научно-исследовательской лаборатории инженерной химии НИИ химии Университета Лобачевского получили в октябре 2026 года. Технология предназначена для производства высокочистых абразивных наноматериалов, применяемых при химико-механической полировке полупроводниковых пластин. От свойств наночастиц зависят качество обработки поверхности и характеристики готовых электронных компонентов.
Работа над проектом ведётся с 2024 года в рамках стратегического проекта «Новые материалы для микроэлектроники» федеральной программы «Приоритет-2030». Исследователи в значительной степени завершили подбор составов и условий синтеза. Сейчас основное внимание уделяется проверке стабильности технологии при масштабировании и испытаниям совместно с промышленным партнёром.
По словам руководителя исследования, кандидата химических наук Ксении Отвагиной, разработанный подход позволяет комплексно управлять свойствами наночастиц и получать материал с заданными характеристиками. Это важно для полировальных суспензий, которые должны обеспечивать стабильную и точную обработку полупроводниковых пластин.
Разработка призвана помочь российской микроэлектронике снизить зависимость от зарубежных поставщиков высокочистых материалов. В условиях ограничений поставок отрасли нужны отечественные аналоги, сопоставимые с импортными продуктами по качеству и стабильности характеристик. Следующий этап проекта — апробация суспензии у индустриального партнёра и подтверждение возможности масштабного производства.