Микросхемы нового поколения: ASML готовит литографическую систему Hyper NA
iXBT.com ·
Нидерландская ASML совместно с немецким производителем оптики Carl Zeiss приступила к разработке литографической системы нового поколения под названием Hyper NA.
Нидерландская ASML совместно с немецким производителем оптики Carl Zeiss приступила к разработке литографической системы нового поколения под названием Hyper NA.
На создание технологии может уйти около десяти лет. Пока проект находится на ранней стадии, и компания не приняла окончательного решения о запуске производства оборудования.
Ожидается, что Hyper NA позволит формировать более мелкие элементы микросхем, чем действующие установки с высокой числовой апертурой (High-NA EUV). Потенциально система сможет работать со структурами размером около 5 нм, а разрешение вырастет более чем на треть относительно возможностей нынешнего оборудования.
Разработка необходима для дальнейшего совершенствования полупроводников: производители стремятся повышать производительность чипов и снижать энергопотребление, однако литография остаётся одним из главных технологических ограничений.
Carl Zeiss уже работает над созданием зеркал с необходимой для Hyper NA точностью. При этом ASML рассчитывает использовать часть существующих решений, включая источник света, чтобы не перестраивать систему освещения с нуля.