Россия и Белоруссия совместно создали литограф для производства 130-нанометровых чипов
iXBT.com ·
Россия и Белоруссия совместно изготовили опытный образец литографической установки для производства микросхем по техпроцессу 130 нм. Об этом заявил первый вице-премьер РФ Денис Мантуров на пленарной сессии форума «Микроэлектроника».
Россия и Белоруссия совместно изготовили опытный образец литографической установки для производства микросхем по техпроцессу 130 нм. Об этом заявил первый вице-премьер РФ Денис Мантуров на пленарной сессии форума «Микроэлектроника».
По словам Мантурова, для установки разработали собственный эксимерный лазер. Это, как отметил первый вице-премьер, позволило России войти в число стран, обладающих соответствующей технологией.
Параллельно Россия развивает электронно-лучевую литографию, которая используется в том числе при изготовлении фотошаблонов для производства микросхем. В Зеленограде завершается создание научно-технологического центра, где планируется наладить выпуск таких изделий. Проект предусматривает поэтапное освоение более современных топологических норм — вплоть до 28 нм.
Отдельное направление — создание собственных материалов и химических продуктов для микроэлектроники. По словам Мантурова, за последние три года в России освоили производство около 60 критически важных позиций.